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DRAM生产即将进入EUV时代?传SK海力士再购EUV设备

发布日期:2019-10-22 14:25 浏览次数:
       据韩国媒报道,传SK海力士近期对荷兰设备生产商ASML下单1台DRAM生产用EUV设备,预定投入2020年下半新完工的利川M16工厂中EUV专用产线。目前SK海力士已有至少2台EUV设备。
       EUV为Extreme Ultraviolet Lithography简称,中文为极紫外光刻,它以波长为10-14纳米的极紫外光作为光源的光刻技术。具体为采用波长为13.4nm 的紫外线。极紫外线就是指需要通过通电激发紫外线管的K极然后放射出紫外线。
       SK海力士芯片生产商,源于韩国品牌英文缩写"HY"。海力士即原现代内存,2001年更名为海力士。海力士半导体是世界第三大DRAM制造商,也在整个半导体公司中占第九位。
       目前EUV设备可说是晶圆代工业者的专属产品,ASML只有两家主要客户,分别是台积电与三星,将机台用在生产中央处理器(CPU)、应用处理器(AP)等系统半导体领域。三星从2019年4月开始以7纳米制程EUV进行量产;台积电最近也宣布以名为N7+的7纳米EUV制程进行量产。
       面对5G移动通信发展带动超小型、高性能的存储器需求成长,SK海力士与三星有意利用EUV设备量产DRAM。因为制程越是精细,一片晶圆上可生产的单颗Die数量愈多,性能也可提高。
       近期,SK海力士宣布已经成功研发出第三代10nm级(1Z)DRAM,且该产品较上一代1Y产品生产效率提高了约27%,而且无需极紫外光曝光工艺也可以生产。然而,对于制程复杂微细、需要重叠显影的生产制程,EUV可以显著简化生产过程、缩短生产时间,尤其是在1Znm之后的DRAM技术上使用意义重大,因此长期来看仍然是值得投资的。
       ASML在2019年10月中旬召开的第3季(7~9月)法说会中表示,客户有强劲DARM用EUV设备需求,将尽全力达成客户目标;2020年总计将生产35台EUV设备(包含DRAM产线机种)。业界推测ASML提到的客户就是三星与SK海力士。据了解,三星日前也对ASML下了DRAM产线用EUV设备订单。
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